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J-GLOBAL ID：200903090798785359

レーザ描画装置

Inventor： 伊東 和峰
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 小池 晃 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994127350
Publication number (International publication number)：1995332931
Application date： Jun. 09, 1994
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：

【要約】【構成】 基板等のワーク8上に、レーザ光源5、多面体ミラー1等を介してレーザビームを走査して描画を行う装置であり、描画を行うレーザビームのワーク8よりの反射光をハーフミラー10、フォトディテクタ11により検出し、ワーク8上のアライメントマークを検出して、ワーク8の位置決めを行う。【効果】 描画を行う光学系とアライメントマークの検出を行う光学系との間の視差が生じないため、正確な位置決めができる。

Claim (excerpt)：

被照射物上にレーザビームを集光して照射するビーム照射手段と、上記レーザビームを上記被照射物上における少なくとも一方向に走査させるビーム走査手段と、上記ビーム照射手段及び上記レーザ走査手段により上記被照射物上に照射され走査されたレーザビームの該被照射物による反射光を検出するビーム検出手段と、上記ビーム検出手段による検出結果に基づき、上記被照射物の位置を判別する位置判別手段とを備え、上記位置判別手段により判別される上記被照射物の位置に基づいて、この被照射物上における上記ビーム照射手段及び上記ビーム走査手段によるレーザビームの照射位置を定めることとなされているレーザ描画装置。