Pat
J-GLOBAL ID:200903090815388083

浸炭および浸炭窒化処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小塩 豊
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998350993
Publication number (International publication number):2000178710
Application date: Dec. 10, 1998
Publication date: Jun. 27, 2000
Summary:
【要約】【課題】 高度のシール構造を備えた真空炉を必要とせず、被処理物を温度むらなく速やかに加熱することができ、浸炭と窒化の同時処理をも行うことができる浸炭および浸炭窒化処理方法を提供する。【解決手段】 窒素雰囲気中でワークを所定の浸炭温度まで加熱したのち、浸炭用ガスとして、アセチレンやエチレンのような鎖状不飽和炭化水素ガスを断続的に供給することによって浸炭させる。また、窒素源としてのアンモニアガスを上記鎖状不飽和炭化水素ガスと共に断続供給することによって浸炭窒化させる。
Claim (excerpt):
加熱室内に収納したワークを窒素雰囲気中で所定の浸炭温度まで加熱したのち、加熱室内に鎖状不飽和炭化水素ガスを断続的に供給して浸炭させることを特徴とする浸炭処理方法。
IPC (2):
C23C 8/22 ,  C23C 8/32
FI (2):
C23C 8/22 ,  C23C 8/32
F-Term (4):
4K028AA01 ,  4K028AA03 ,  4K028AB06 ,  4K028AC08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
Show all
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page