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J-GLOBAL ID:200903090835920725

プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004002883
Publication number (International publication number):2005197503
Application date: Jan. 08, 2004
Publication date: Jul. 21, 2005
Summary:
【課題】 プラズマ処理装置による処理結果の予測などの精度を高めることができるとともに,モデル作成の際の負担を軽減する。【解決手段】 基準とする運転条件A,Bによる計測データXa,Xbを計測データ記憶部202に記憶し,多変量解析により作成されたモデルKa,Kbを解析処理結果記憶部210に記憶し,新たな運転条件Pによる計測データXpを計測データ記憶部202に記憶し,解析処理部208により,計測データXpを計測データXaと計測データXbとにそれぞれ重み係数Wa,Wbを乗じたものを加えた重み付計測データとすることにより重み係数Wa,Wbを求め,モデルKaとモデルKbとにそれぞれ重み係数Wa,Wbを乗じたものを加えることにより,新たな運転条件Pに基づくモデルKpを求めるようにした。【選択図】 図2
Claim (excerpt):
処理装置の運転条件を設定して,前記処理装置に備えられた気密な処理容器内にプラズマを発生させて被処理体にプラズマ処理を施す際に,前記処理装置に設けられた計測器によって計測された計測データに基づいて多変量解析を行ってモデルを作成し,そのモデルに基づいてプラズマ処理に関する情報を監視する,又はそのモデルによるプラズマ処理に関する情報の変化に対応させてプラズマ処理の運転条件を変更するプラズマ処理方法において, 第1の運転条件を設定してプラズマ処理を行ったときに,前記計測器によって第1の計測データを取得する工程と, 前記第1の計測データに基づいて多変量解析により第1のモデルを作成する工程と, 第2の運転条件を設定してプラズマ処理を行ったときに,前記計測器によって第2の計測データを取得する工程と, 前記第2の計測データに基づいて多変量解析により第2のモデルを作成する工程と, 第3の運転条件を設定してプラズマ処理を行ったときに,前記計測器によって第3の計測データを取得する工程と, 前記第3の計測データを前記第1の計測データと前記第2の計測データとにそれぞれ重み係数を乗じたものを加えた重み付計測データとすることにより,前記重み係数を求める工程と, 前記第1のモデルと前記第2のモデルとにそれぞれ前記重み係数を乗じたものを加えることにより,第3の運転条件に基づく第3のモデルを求める工程と, を有することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (3):
H01L21/3065 ,  H05H1/00 ,  H05H1/46
FI (3):
H01L21/302 101B ,  H05H1/00 A ,  H05H1/46 L
F-Term (15):
5F004BA08 ,  5F004BB07 ,  5F004BB11 ,  5F004BB22 ,  5F004BC03 ,  5F004CA02 ,  5F004CA03 ,  5F004CA08 ,  5F004CB05 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F004DB03 ,  5F004EB01 ,  5F004EB03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (4)
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