Pat

J-GLOBAL ID：200903090854194628

オゾン処理装置とその制御方法

Inventor： 清水 公一 ,  佐藤 茂雄 ,  野口 寛 ,  松井 理恵
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994073664
Publication number (International publication number)：1995275875
Application date： Apr. 13, 1994
Publication date： Oct. 24, 1995
Summary：

【要約】【目的】 下水2次処理水をオゾン処理するに際し、目標とする水質を確保するために最適なオゾン注入によってオゾン処理槽の運転を実施することができるオゾン処理装置とその制御方法を提供することを目的とする。【構成】 オゾン処理第1槽1aとオゾン処理第2槽1bに区分された密閉型のオゾン処理槽1と、各オゾン処理槽1a,1bにオゾンガスを別途に供給する第1オゾン発生装置4a及び第2オゾン発生装置4bと、各オゾン処理槽1a,1bに夫々配備されたオゾン処理の対象となる物質を連続的に測定するための計測器7a,7bと、この計測器7a,7bから得られる測定値に基づいてオゾン処理第2槽に供給する最適オゾン濃度もしくはオゾンガス流量を決定するための注入オゾン操作値を演算する制御機構とを具備して成るオゾン処理装置とその制御方法とを提供する。

Claim (excerpt)：

内部がオゾン処理第1槽とオゾン処理第2槽に区分された密閉型のオゾン処理槽と、上記オゾン処理第1槽とオゾン処理第2槽にオゾンガスを別途に供給する第1オゾン発生装置及び第2オゾン発生装置と、上記オゾン処理第1槽とオゾン処理第2槽に夫々配備されたオゾン処理の対象となる物質を連続的に測定するための計測器と、この計測器から得られる測定値に基づいてオゾン処理第2槽に供給する最適オゾン濃度もしくはオゾンガス流量を決定するための注入オゾン操作値を演算する制御機構とを具備して成ることを特徴とするオゾン処理装置。