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J-GLOBAL ID：200903090890900792
液体原料CVD装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993329739
Publication number (International publication number)：1995150359
Application date： Nov. 30, 1993
Publication date： Jun. 13, 1995
Summary：
【要約】【目的】 液体原料CVD装置において、迅速に、かつ、均一な成膜を行なうことができるようにする。【構成】 原料気化装置で気化された原料を、少なくとも1回の蒸着に必要な量だけ、所定時間保持しておく原料ガス保持部を設け、試料に蒸着を行なう際は、原料ガス保持部に保持された原料ガスを所定の速度で蒸着室に送る。
Claim (excerpt)：
a)液体原料を気化する原料気化手段と、b)原料気化手段で生成された原料ガスを、少なくとも1回の蒸着に必要な量だけ、所定時間保持しておく原料ガス保持手段と、c)原料ガス保持手段に保持された原料ガスを、所定の速度で蒸着室に送る原料ガス送給手段と、を備えることを特徴とする液体原料CVD装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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