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J-GLOBAL ID：200903090896834856

酸化チタン薄膜形成用組成物及びそれを用いる光触媒構造体

Inventor： 斉藤 徳良 ,  斎藤 一徳 ,  本田 久司 ,  渡辺 力 ,  鎌田 博士 ,  藤嶋 昭 ,  橋本 和仁
Applicant, Patent owner： 日本曹達株式会社 ,  東芝ライテック株式会社
Agent (1)： 東海 裕作
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996085707
Publication number (International publication number)：1997248467
Application date： Mar. 14, 1996
Publication date： Sep. 22, 1997
Summary：

【要約】【課題】優れた光触媒活性を有し、且つ、優れた光学特性、機械的耐久性及び化学的耐久性を併せ持つバランスのとれた薄膜形成用組成物を提供する。また、耐熱性基体に酸化チタン薄膜を成膜し、優れた光学特性、機械的耐久性及び化学的耐久性を有し、且つ、防汚活性の優れた光触媒構造体を提供する。【解決手段】本発明は、酸化チタンゾルと安定化チタンアルコキシドを含有してなる酸化チタン薄膜形成用組成物及びそれを耐熱性基体に担持してなる光触媒構造体である。

Claim (excerpt)：

酸化チタンゾルと安定化チタンアルコキシドを含有してなる酸化チタン薄膜形成用組成物

IPC (3)：

B01J 35/02 ,  B01J 21/06 ,  C03C 17/25

FI (3)：

B01J 35/02 J ,  B01J 21/06 M ,  C03C 17/25 A