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J-GLOBAL ID：200903090918462303

光学手段で構造体のレリーフ形状を調査する方法

Inventor： ジェローム・アザール
Applicant, Patent owner： コミツサリア タ レネルジー アトミーク
Agent (4)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2004563318
Publication number (International publication number)：2006511799
Application date： Dec. 22, 2003
Publication date： Apr. 06, 2006
Summary：

レリーフ形状が提供された表面を調査する方法が提案される。そこでは、測定スペクトルが取り込まれ、次に段階的に調整される任意の構造を代表するテスト・スペクトルと比較される。本発明によれば、パラメータの階層化された調整による決定を最適化しながら、スペクトルの代表点上における相関関係が選択される。

Claim (excerpt)：

表面上に放射(2)を施すための段階と、前記表面上での放射の反射(6)の後に前記放射の測定スペクトルを集めてグラフィック媒体(9)上に前記スペクトルを表示する段階と、を有し、 さらに、スペクトル(16、17、18、19)の点を選択するための段階であって、前記点がスペクトルに接近する線によって連結できるようにする段階と、 選択された点を、テスト・スペクトルと同種の点をもつ測定スペクトルと比較することにより、前記表面のレリーフ形状(5)を求める段階であって、パラメータで表現されるようなレリーフのモデル化に由来するテスト面(5,22)における放射の模擬反射から、前記テスト・スペクトルがもたらされるようにする段階と、を有する、反射率測定により表面を調査する方法であって、 パラメータの調整による比較及びテスト・スペクトルの調整を含み、前記パラメータは、前記パラメータに対するテスト・スペクトルの感度により決定された順序で引き続いて調整され、前記スペクトルにおける最も有力なパラメータが最初に、そして他がそれに続いて調整されるようにすることを特徴とする、反射率測定により表面を調査する方法。

IPC (1)：

G01B 11/24

FI (1)：

G01B11/24 D

F-Term (24)：

2F065AA21 ,  2F065AA24 ,  2F065AA31 ,  2F065AA52 ,  2F065AA53 ,  2F065BB02 ,  2F065BB05 ,  2F065BB18 ,  2F065CC17 ,  2F065DD06 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065FF51 ,  2F065GG04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ08 ,  2F065LL02 ,  2F065LL67 ,  2F065PP13 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ29 ,  2F065RR09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 米国特許第5,739,909号明細書
  
• 米国特許第5,867,276号明細書