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J-GLOBAL ID:200903090984643998

排ガス浄化用触媒

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998192053
Publication number (International publication number):2000024503
Application date: Jul. 07, 1998
Publication date: Jan. 25, 2000
Summary:
【要約】【課題】貴金属を充分な量で均一に担持するとともに、その粒成長を抑制できる触媒とする。【解決手段】細孔として径が10〜50Åのメソ細孔のみを有するシリカ多孔質体を担体とし、少なくともメソ細孔内に貴金属が担持されている。メソ細孔内に担持されている貴金属は移動が困難となるために、耐久試験時の粒成長が抑制される。またシリカ多孔質体の細孔は本質的にメソ細孔のみであるので、ミリングによってもメソ細孔が消滅することがなく、そのメソ細孔に貴金属を担持することで粒成長が抑制される。
Claim (excerpt):
細孔として径が10〜50Åのメソ細孔のみを有するシリカ多孔質体を担体とし、少なくとも該メソ細孔内に貴金属が担持されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (5):
B01J 29/035 ,  B01D 53/94 ,  B01J 29/74 ZAB ,  B01J 35/10 301 ,  B01J 37/02 301
FI (5):
B01J 29/035 A ,  B01J 29/74 ZAB A ,  B01J 35/10 301 F ,  B01J 37/02 301 C ,  B01D 53/36 102 D
F-Term (36):
4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB05 ,  4D048BA06X ,  4D048BA12X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048BB02 ,  4G069AA01 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA13B ,  4G069BC32A ,  4G069BC33A ,  4G069BC69A ,  4G069BC75B ,  4G069CA03 ,  4G069CA09 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02Y ,  4G069EA18 ,  4G069EC13X ,  4G069EC14X ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G069FB23 ,  4G069FB30 ,  4G069FB64

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