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J-GLOBAL ID：200903090997627053

露光方法

Inventor： 白石 直正 ,  蛭川 茂
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000100521
Publication number (International publication number)：2000306830
Application date： Feb. 28, 1991
Publication date： Nov. 02, 2000
Summary：

【要約】【課題】 微細パターンを感光基板上に高解像度で転写可能とする。【解決手段】 感光基板上に形成すべき微細パターンの解像に寄与する周期的な第1パターンと、その微細パターンの形状を規定するために、感光基板上で第1パターンの一部と重ね合わされる第2パターンとをそれぞれ照明光で照射して感光基板を多重露光する。

Claim (excerpt)：

回路パターン等の原版上のパターンを、投影光学系を介して被露光基板へ露光・転写せしめる投影型露光装置を使った露光方法であって、転写すべき原版上のパターン面に対してほぼフーリエ変換の関係となる前記露光装置の照明光学系中の面内に於いて、該照明光学系の光軸以外の任意の1つ以上の点のそれぞれを中心とする任意の領域に、前記原版を照明するための照明光量を集中させ、前記被露光基板上の1つの被露光領域への露光を複数の露光に分割して行い、該複数の露光の夫々において、前記原版と前記被露光基板との前記投影光学系の光軸と垂直な面内での相対位置関係を異ならせ、前記複数の露光に於いて、前記被露光基板上の少なくとも1つ以上の領域は、前記複数の露光のすべてに於いて前記原版上のそれぞれ異なるパターンが重ね合わされて露光され、かつ、前記重ね合わせ露光される複数のパターンのうち、少なくとも1つはほぼ周期的に配列されたパターン群であることを特徴とするパターン露光方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521

FI (4)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 1/08 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭63-232318
  
• 特開平2-166717
  
• 特開昭61-091662