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J-GLOBAL ID：200903090998389334

光導波路素子の形成方法

Inventor： 中居 道弘 ,  酒井 哲弥 ,  日高 啓視
Applicant, Patent owner： 株式会社フジクラ
Agent (1)： 藤巻 正憲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995064475
Publication number (International publication number)：1996262249
Application date： Mar. 23, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 光導波路に内部応力又は反りが発生することがなく、また任意の材料を基板とすることができ、更に光素子をフィルム状とすることができる石英薄膜形成方法をを提供する。【構成】 剥離用膜3及びコア層4が積層されたセラミック多孔質基板1の下端部をエッチング溶液に浸漬し、剥離用膜3をエッチングする。そしてコア層4を基板1から剥離して、他の基板に高温で張り付けた後、パターニングして光導波路を形成する。

Claim (excerpt)：

セラミック多孔質基板上にエッチング溶液により浸食又は溶解する剥離用膜を形成する工程と、この剥離用膜上にコア層を積層する工程と、前記基板の下部をエッチング溶液に浸漬し前記剥離用膜をエッチングして前記基板から前記コア層を剥離する工程と、前記コア層を他の基板上に張り付ける工程と、前記コア層をパターニングする工程と、パターニング後のコア層を被覆するように前記他の基板上にクラッド層を形成する工程とを有することを特徴とする光導波路素子の形成方法。