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J-GLOBAL ID：200903091002924740
ポリッシング装置のトップリングとポリッシング対象物洗浄装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
熊谷 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996069259
Publication number (International publication number)：1997234664
Application date： Feb. 28, 1996
Publication date： Sep. 09, 1997
Summary：
【要約】【課題】 トップリングとポリッシング対象物の洗浄が同時に行なえ、その生産性が向上できるポリッシング装置のトップリングとポリッシング対象物洗浄装置を提供すること。【解決手段】 その下面76にポリッシング対象物100を吸着保持するトップリング75へポリッシング対象物100を受け渡しする位置にプッシャー10を設置する。プッシャー10はその載置部11が上昇してトップリング75に接近した位置でトップリング75との間でポリッシング対象物100の受け渡しを行なう。プッシャー10の載置部11が研磨後のポリッシング対象物100をトップリング75から渡されて下降した状態でポリッシング対象物100の上面と下面とトップリング75の下面76を洗浄する3つの位置に、それぞれ洗浄ノズル31,33,35を設置する。洗浄ノズル31,33,35からはほぼ同時に洗浄液が噴射される。
Claim (excerpt)：
ポリッシング対象物をその下面に保持するトップリングと、該トップリングに保持したポリッシング対象物の表面を研磨する研磨面を有するターンテーブルと、トップリングへポリッシング対象物を受け渡しする位置に設置され、その上部の載置部が上昇して前記トップリングに接近した位置で該トップリングとの間でポリッシング対象物の受け渡しを行なうプッシャーとを具備してなるポリッシング装置において、前記プッシャーの載置部が研磨後のポリッシング対象物をトップリングから渡された後に前記ポリッシング対象物の上面と下面及びトップリングの下面を洗浄する3つの位置に、それぞれ洗浄ノズルを設置したことを特徴とするポリッシング装置のトップリングとポリッシング対象物洗浄装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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