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J-GLOBAL ID：200903091003865569

パターン形成方法及び装置

Inventor： 松岡 晃次
Applicant, Patent owner： 松下電器産業株式会社
Agent (1)： 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993155086
Publication number (International publication number)：1995135142
Application date： Jun. 25, 1993
Publication date： May. 23, 1995
Summary：

【要約】【目的】 安定したオフセットゲートもしくは、パターン寸法をアライメントズレなく形成するパターン形成技術を提供する。【構成】 段差基板21上にレジスト23を塗布する工程と、露光光源と基板21との角度が0度から90度の間の角度をもった状態で、基板21に露光光24を照射する工程と、露光された部分を現像する工程とを備えたパターン形成方法である。

Claim (excerpt)：

段差基板上にレジストを塗布する工程と、露光光源と基板との角度が0度から90度の間の角度をもった状態で、基板に露光光を照射する工程と、露光された部分を現像する工程とを備えたパターン形成方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  C23F 1/00 102

FI (3)：

H01L 21/30 502 C ,  H01L 21/30 502 A ,  H01L 21/30 569