露光装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993183898
Publication number (International publication number)：1994097046
Application date： Jul. 26, 1993
Publication date： Apr. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】感光基板上の複数のショット領域の各々についてその露光面に凹凸等が存在しても、ショット領域毎にその露光面の真の平均的な面を投影光学系の最良結像面に平行に設定する。【構成】 9つの特定ショット領域の各々について、レベリング光学系を用いてその露光面と投影光学系3の最良結像面とを一致させた状態で、焦点検出光学系を用いて特定ショット領域内の複数の点の各々での最良撮像面P1からのずれ量を検出してその真の平均的な面(傾斜量)を求める。次に、特定ショット領域毎の傾斜量を統計演算することにより、ウェハ4上の全てのショット領域の各々での傾斜量(レベリング補正量)を算出し、ショット領域毎にこの補正量を用いてレベリングを行う。

Claim (excerpt)：

複数のショット領域が2次元的に配列された基板を保持して、所定の基準平面に対して任意に傾斜可能で、かつ前記基準平面とほぼ平行な面内で2次元移動可能なステージと、前記基準平面に対する前記ショット領域内の少なくとも1つの計測点での前記基板とほぼ垂直な方向のずれを検出する焦点検出光学系と、前記基準平面に対する前記ショット領域の傾斜状態を検出する傾斜検出光学系とを備え、前記複数のショット領域の各々を前記基準平面に配置してマスクに形成されたパターンを転写する露光装置において、前記基板上の複数のショット領域のうち、少なくとも3つのショット領域を特定ショット領域として選択し、前記傾斜検出光学系を用いて前記特定ショット領域と前記基準平面とを一致させた状態で、前記焦点検出光学系を用いて前記特定ショット領域内の予め定められた複数の計測点の各々での前記基準平面からのずれ量を求める第1の制御手段と;前記複数の計測点でのずれ量に基づいて前記特定ショット領域の露光面の傾斜量を算出するとともに、該算出された前記複数の特定ショット領域の各々での傾斜量を統計演算することにより、前記基板上の複数のショット領域の各々の傾斜補正量を算出する演算手段と;前記複数のショット領域の各々の露光面と前記基準平面とがほぼ一致するように、前記ショット領域毎に前記傾斜補正量と前記傾斜検出光学系からの検出信号とに基づいて前記ステージの移動を制御する第2の制御手段とを備えたことを特徴とする露光装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 , G03F 9/02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

特開平1-170022
特開平2-102518
特開平2-153519

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Cited by examiner (6)

特開平1-170022
特開平2-102518
特開平2-153519

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