分布計測データによる機器状態の監視方法

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐藤一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994206945
Publication number (International publication number)：1996068673
Application date： Aug. 31, 1994
Publication date： Mar. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】対象機器から取り出した2次元分布計測データにより機器状態の監視・診断を簡単かつ的確に行える機器状態の監視方法を提供すること。【構成】対象機器を含む機器の状態に関する2次元分布計測データを時々刻々取り込み、前記2次元分布計測データと該機器の3次元形状モデルによる表示結果とを位置合わせし、かつ対応付けて重ね合わせ表示し、この表示内容から点検すべき機器部分を指定し、指定された機器部分に対応する前記3次元形状モデル上に当該機器の計測データをマッピングし、前記計測データの変化を検出して機器の異常の有無を判定する分布計測データによる機器状態の監視方法。

Claim (excerpt)：

対象機器を含む機器の状態に関する2次元分布計測データを取り込み、前記2次元分布計測データと該機器の3次元形状モデルによる表示結果とを位置合わせし、かつ対応付けて重ね合わせ表示し、この表示内容から点検すべき機器部分を指定し、指定された機器部分に対応する前記3次元形状モデル上に当該機器の計測データをマッピングし、前記計測データの変化を検出して機器の異常の有無を判定する分布計測データによる機器状態の監視方法。

IPC (3)：

G01D 21/00 , G01H 17/00 , G01J 5/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (18)

監視システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-238277 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-308895
高炉プロセス立体監視装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-177082 Applicant：新日本製鐵株式会社

特開平3-278183

特開平4-096184

特開平2-293685

プラント監視制御装置及びプラント監視方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-137923 Applicant：株式会社日立製作所, 日立エンジニアリング株式会社

特開平4-169803

三次元位置計測のための位置対応テーブル作成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-018737 Applicant：富士通株式会社

画像のシェーディング補正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-361320 Applicant：川崎製鉄株式会社

特開平4-315930

特開平4-198812

プラント異常点検装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-102495 Applicant：三菱電機株式会社

特開平1-273197

特開平3-251721

プロセス情報表示システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-212357 Applicant：株式会社日立製作所

特開昭64-035697

特公昭61-010262

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Cited by examiner (29)

監視システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-238277 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-308895
高炉プロセス立体監視装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-177082 Applicant：新日本製鐵株式会社

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