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J-GLOBAL ID：200903091020389649

超高度処理における前処理方法およびその装置

Inventor： 石丸 勇 ,  清水 健二
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993145304
Publication number (International publication number)：1995000963
Application date： Jun. 17, 1993
Publication date： Jan. 06, 1995
Summary：

【要約】【構成】 被処理水25に電気透析処理44ないし逆浸透膜処理45の超高度処理を施すに先だって、被処理水25を凝集剤およびpH調整剤とともに浸漬型凝集膜分離装置21の分離槽に導き、分離槽において被処理水中の懸濁物質を凝集させるとともに、分離槽に浸漬した膜分離装置で被処理水25を吸引濾過し、膜分離装置の限外濾過膜ないし精密濾過膜からなる濾過膜を透過した透過水に活性炭吸着処理42ならびに軟水化処理43を施す。【効果】 凝集した懸濁物質を膜分離装置で分離除去するので、従来と同様の凝集剤添加率で、より完全な固液分離を行うことができ。槽の容積を小さくすることができ、設置スペースの低減を図ることができるとともに、設備費および電力費の低減を図ることができる。

Claim (excerpt)：

被処理水に電気透析処理ないし逆浸透膜処理の超高度処理を施すに先だって、被処理水を凝集剤およびpH調整剤とともに分離槽に導き、分離槽において被処理水中の懸濁物質を凝集させるとともに、分離槽に浸漬した膜分離装置で被処理水を吸引濾過し、膜分離装置の限外濾過膜ないし精密濾過膜からなる濾過膜を透過した透過水に活性炭吸着処理ならびに軟水化処理を施すことを特徴とする超高度処理における前処理方法。

IPC (6)：

C02F 1/44 ,  B01D 61/04 ,  B01D 61/44 520 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/52