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J-GLOBAL ID：200903091022651928

圧電体素子、インクジェット式記録ヘッドおよびそれらの製造方法

Inventor： 邱 宏 ,  西脇 学 ,  角 浩二 ,  村井 正己
Applicant, Patent owner： セイコーエプソン株式会社
Agent (1)： 鈴木 喜三郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997324819
Publication number (International publication number)：1999157068
Application date： Nov. 26, 1997
Publication date： Jun. 15, 1999
Summary：

【要約】【課題】 圧電体素子における低誘電率層を薄く形成する製造方法の提供。【解決手段】 導電性材料より構成される下部電極を形成する工程、下部電極の電界が印加されると体積変化を生ずる圧電性材料を塗布する工程、圧電性材料の塗布後、850°Cから950°Cの間の温度で焼成して圧電体層を形成する工程、および焼成された圧電体層に導電性材料より構成される上部電極を形成する工程を備える。上記温度で焼成することにより、低誘電率層の発達を極力抑えることができる。

Claim (excerpt)：

電極膜の間に圧電体層を挟んで構成される圧電体素子において、前記圧電体層に比べて誘電率の低い低誘電率層が、下電極膜に沿って10nm以下の厚みで設けられていることを特徴とする圧電体素子。

IPC (5)：

B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/22

FI (4)：

B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H ,  H01L 41/08 C ,  H01L 41/22 Z