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J-GLOBAL ID:200903091035687697
荷電ビーム描画装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995159063
Publication number (International publication number):1997007538
Application date: Jun. 26, 1995
Publication date: Jan. 10, 1997
Summary:
【要約】【目的】 クーロン効果を低減して大ビーム電流を得る。【構成】 熱電界を放出する電子銃10と、この電子銃10のクロスオーバ11から試料面に向かう荷電ビーム12,13を複数の荷電ビームに分割,偏向および結像するマルチ荷電ビーム光学系と、電子銃10のクロスオーバ11から発生した荷電ビームが試料22面に向かう領域において分割された複数の荷電ビームを再び全体として一つのクロスオーバを形成させることなく試料面22面上に加速,投影させる荷電ビーム光学系とを有して構成されている。
Claim (excerpt):
熱電界を放出する電子銃と、前記電子銃のクロスオーバから試料面に向かう荷電ビームを複数の荷電ビームに分割,偏向および結像するマルチ荷電ビーム光学系と、前記電子銃のクロスオーバから発生した荷電ビームが試料面に向かう領域において前記分割された複数の荷電ビームを前記試料面上に加速,投影させる荷電ビーム光学系と、を有することを特徴とする荷電ビーム描画装置。
IPC (2):
H01J 37/305
, H01L 21/027
FI (3):
H01J 37/305 A
, H01L 21/30 541 B
, H01L 21/30 541 Q
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