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J-GLOBAL ID：200903091057116952

プラズマエッチング方法及びその装置

Inventor： 豊田 一行 ,  石田 丈繁 ,  田中 勉 ,  鈴木 貞之
Applicant, Patent owner： 国際電気株式会社
Agent (1)： 三好 祥二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994066821
Publication number (International publication number)：1995249614
Application date： Mar. 10, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：

【要約】【目的】プラズマエッチング装置の構成を変えることなく、エッチング特性の変更を図る。【構成】プラズマ発生用コイル11に高周波電力を印加してプラズマ15を発生させ、プラズマを利用してエッチングを行うプラズマエッチングに於いて、前記プラズマ発生用コイルに印加する高周波電力を周期的に変調させることで、放電電流が時間的に変化し、電子温度が時間的に変化するのでプラズマの励起種の割合が変化し、エッチング特性が変わる。

Claim (excerpt)：

プラズマ発生用コイルに高周波電力を印加してプラズマを発生させ、プラズマを利用してエッチングを行うプラズマエッチング方法に於いて、前記プラズマ発生用コイルに印加する高周波電力を周期的に変調することを特徴とするプラズマエッチング方法。

IPC (2)：

H01L 21/3065 ,  C23F 4/00

FI (2)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 C