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J-GLOBAL ID：200903091061240242
気相成長方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991314414
Publication number (International publication number)：1993152207
Application date： Nov. 28, 1991
Publication date： Jun. 18, 1993
Summary：
【要約】【目的】気相成長速度を高めると共に、膜厚分布の良い気相成長膜を得ることのできる気相成長方法を提供する。【構成】ウェハWを気相成長温度に加熱し、該ウェハWに反応ガスGを接触させてウェハWの表面に気相成長膜を成長させる方法において、前記ウェハWをその中心を回転中心として600〜1900rpm で回転させると共に、50〜400Torrの圧力下で気相成長させるものである。
Claim (excerpt)：
ウェハを気相成長温度に加熱し、該ウェハに反応ガスを接触させてウェハ表面に気相成長膜を成長させる方法において、前記ウェハをその中心を回転中心として600〜1900rpm で回転させると共に、50〜400Torrの圧力下で気相成長させることを特徴とする気相成長方法。
Patent cited by the Patent：
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