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J-GLOBAL ID:200903091062765705

回路基板の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991343587
Publication number (International publication number):1993175649
Application date: Dec. 25, 1991
Publication date: Jul. 13, 1993
Summary:
【要約】【目的】気泡を含有した低誘電率絶縁基板に、該誘電率を損なうことなく、スルーホールを形成して回路基板を製造することが可能な方法を提供する。【構成】(a)両面に導電層2を有する絶縁基板1に、スルーホール用貫通孔3を設け、(b)次いで、スルーホール用貫通孔3の内壁に、高粘度硬化性導電ペーストを充填し、硬化し、(c)高粘度硬化性導電ペーストの硬化体4の基板の両面に突出した部分を研削し、該硬化体4及び導電層2とによって構成される平滑面を形成し、(d)上記平滑面に、レジスト層5により配線パターンに対応するパターンを形成し、(e)次いで、塩化第二鉄のエッチング液で露出している導電層2をエッチングして配線パターン8を形成し、(f)上記レジスト層5を剥離して回路基板を製造する。
Claim (excerpt):
気泡を含有する絶縁体よりなる基板にスルホール用貫通孔を設け、該貫通孔に粘度1000ポイズ以上の硬化性導電ペーストを充填、硬化してスルホールを形成することを特徴とする回路基板の製造方法。
IPC (2):
H05K 3/40 ,  H05K 1/03
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
  • 特開平3-222393
  • 特開昭61-148704
  • 特開平3-241890
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