Pat
J-GLOBAL ID:200903091065777690
微粒子の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003333848
Publication number (International publication number):2005097684
Application date: Sep. 25, 2003
Publication date: Apr. 14, 2005
Summary:
【課題】本発明は、広範囲な材料に適用可能で、粒子径の均一な微粒子を製造する製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の微粒子の製造方法は、基板に同一表面積を有する複数の凸部を形成する凸部形成工程と、該凸部表面に原料を蒸着して原料薄膜を形成する薄膜形成工程と、該原料薄膜に短パルスレーザを照射して該原料薄膜を融解して微粒子となす微粒子形成工程と、該微粒子を前記基板と分離して該微粒子のみを捕集する捕集工程と、を含むことを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
基板に同一表面積を有する複数の凸部を形成する凸部形成工程と、
該凸部表面に原料を蒸着して原料薄膜を形成する薄膜形成工程と、
該原料薄膜に短パルスレーザを照射して該原料薄膜を融解して微粒子となす微粒子形成工程と、
該微粒子を前記基板と分離して該微粒子のみを捕集する捕集工程と、
を含むことを特徴とする微粒子の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (16):
4G075AA24
, 4G075AA27
, 4G075BC01
, 4G075BC06
, 4G075CA02
, 4G075CA23
, 4G075CA36
, 4G075DA01
, 4K017AA03
, 4K017BA02
, 4K017CA01
, 4K017CA08
, 4K017DA01
, 4K017EA02
, 4K017EA13
, 4K017EK08
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