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J-GLOBAL ID：200903091096960566

シングルフオトンECT装置の吸収補正方法

Inventor： 大井 淳一
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 佐藤 祐介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991280601
Publication number (International publication number)：1993093779
Application date： Sep. 30, 1991
Publication date： Apr. 16, 1993
Summary：

【要約】【目的】 どのようなコリメータでもECT断層像の吸収補正を比較的簡単な計算で正確に行なう。【構成】 ECT断層面において被検体を覆うような大きさを有する線源を被検体の近傍に配置して吸収係数分布を求め、吸収補正せずに一応求めたピクチャセル毎のECT値を、上記吸収係数分布を利用して吸収補正しながら投影して各角度方向への投影データを得、これら各角度方向への投影データを逆投影する。

Claim (excerpt)：

ECT断層面において被検体を覆うような大きさを有する線源を被検体の近傍に配置することによってECT断層像と同一断層面に関する吸収係数分布を求め、吸収補正せずに一応求めたピクチャセル毎のECT値を、上記吸収係数分布を利用して吸収補正しながら投影して各角度方向への投影データを得、これら各角度方向への投影データを逆投影することを特徴とするシングルフォトンECT装置の吸収補正方法。