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J-GLOBAL ID：200903091130730460

レーザー干渉測長装置

Inventor： 豊永 修司 ,  石田 明
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992109869
Publication number (International publication number)：1993302808
Application date： Apr. 28, 1992
Publication date： Nov. 16, 1993
Summary：

【要約】【目的】光透過面における有害反射光をより低下させ、高精度な変位測定を可能にする。【構成】入力ビームを互いに直交する偏光状態を持つ参照ビームと測長ビームとに分割する偏光ビーム分割手段と、参照ビームを入力ビームと分離して偏光ビーム分割手段から出射するように折り返す参照ビーム反射手段と、測長ビームを参照ビームと同軸で出射するように折り返す反射手段とを有する干渉測長器において、測長ビーム反射手段の反射部材に4分の1波長板を接合一体化した。これにより、4分の1波長板の反射部材側面が空気と接することなく、この面での反射光は殆ど発生しない。従って、有害反射光を低下させることができ、測定誤差を低減しより高精度の測定が可能となる。

Claim (excerpt)：

レーザービームを発生する光源手段と、前記光源手段より得られる入力ビームを互いに直交する偏光状態を持つ参照ビームと測長ビームとに分割する偏光ビーム分割手段と、前記参照ビームを前記入力ビームと分離して前記偏光ビーム分割手段から出射するように折り返す参照ビーム反射手段と、前記測長ビームを前記参照ビーム反射手段により折り返され前記偏光ビーム分割手段から出射する参照ビームと同軸で出射するように折り返す4分の1波長板と接合一体化された反射部材を有する測長ビーム反射手段と、前記参照ビーム反射手段及び測長ビーム反射手段によりそれぞれ折り返され前記偏光ビーム分割手段から出射する互いに直交する直線偏光成分からなる参照ビームと測長ビームとを偏光干渉させ前記4分の1波長板と接合一体化された反射部材の変位を求める手段とを有することを特徴とするレーザー干渉測長装置。