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J-GLOBAL ID：200903091182111806

2光子蛍光標識方法及び2光子吸収化合物

Inventor：
稲垣 由夫

About 稲垣 由夫

, 
滝沢 裕雄

About 滝沢 裕雄

, 
秋葉 雅温

About 秋葉 雅温


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003015683
Publication number (International publication number)：2004224746
Application date： Jan. 24, 2003
Publication date： Aug. 12, 2004
Summary：
【課題】大きな2光子吸収断面積を持ち、しかも蛍光強度が高く、被標識化合物と共有結合を形成し得る化合物を用いて被標識物質を標識する方法を提供する。【解決手段】物質を標識するに際して、下記一般式(I)で表わされる化合物と前記被標識物質とを共有結合を介して連結するように反応させる2光子蛍光標識方法。一般式(I)G-(L)n1-A式中、Gは被標識体と反応して共有結合を形成し得る反応性基を表し、LはGとAとを共有結合で連結するための連結基を表し、Aは、H-Aであらわされる化合物の2光子吸収断面積が1000GM以上であるような有機基を表す。n1は0または1を表す。【選択図】 選択図なし
Claim (excerpt)：
物質を標識するに際して、下記一般式(I)で表わされる化合物と前記被標識物質とを共有結合を介して連結するように反応させることを特徴とする2光子蛍光標識方法。 一般式(I) G-(L)n1-A 式中、Gは被標識体と反応して共有結合を形成し得る反応性基を表し、LはGとAとを共有結合で連結するための連結基を表し、Aは、H-Aであらわされる化合物の2光子吸収断面積が1000GM以上であるような有機基を表す。n1は0または1を表す。
IPC (7)：
C07D209/12 ,  C07D209/88 ,  C07D213/36 ,  C07D215/14 ,  C07D401/14 ,  C07D471/04 ,  C09K11/06
FI (7)：
C07D209/12 ,  C07D209/88 ,  C07D213/36 ,  C07D215/14 ,  C07D401/14 ,  C07D471/04 104Z ,  C09K11/06
F-Term (45)：
4C031BA07 ,  4C055AA04 ,  4C055AA11 ,  4C055BA01 ,  4C055CA01 ,  4C055DA06 ,  4C055DA27 ,  4C055DB04 ,  4C055DB08 ,  4C063AA03 ,  4C063BB03 ,  4C063CC12 ,  4C063DD08 ,  4C063EE05 ,  4C065AA04 ,  4C065BB04 ,  4C065CC01 ,  4C065DD02 ,  4C065EE02 ,  4C065HH09 ,  4C065JJ01 ,  4C065KK02 ,  4C065KK04 ,  4C065LL01 ,  4C065PP02 ,  4C204BB05 ,  4C204CB25 ,  4C204DB01 ,  4C204EB01 ,  4C204FB15 ,  4C204GB30 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H056CA02 ,  4H056CA03 ,  4H056CA05 ,  4H056CB01 ,  4H056CC02 ,  4H056CE02 ,  4H056CE03 ,  4H056CE06 ,  4H056CE07 ,  4H056DD03 ,  4H056DD04 ,  4H056FA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)
Article cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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