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J-GLOBAL ID：200903091183601220
膜分離装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995142285
Publication number (International publication number)：1996332355
Application date： Jun. 09, 1995
Publication date： Dec. 17, 1996
Summary：
【要約】【目的】 処理槽の内部に、複数の膜エレメントを設けた膜モジュールを配設し、この膜モジュールの下方に散気手段を配設した膜分離装置において、曝気空気により円滑な循環流を形成して効果的に膜面洗浄できるようにする。【構成】 水平方向に隣接する膜エレメント5,5間の間隙を上向流が通過する上向流路Aとなし、槽内における膜モジュール2の外側領域を下向流路Bとなすとともに、下向流路Bの断面積が上向流路Aの断面積の1〜3倍となるように構成する。
Claim (excerpt)：
処理槽の内部に、複数の管状膜エレメントの両端を一対のヘッダで支持し、複数の膜エレメントの最外側に前記ヘッダどうしを連結する一対のガイド板を設けた浸漬型膜モジュールを配設し、この膜モジュールの下方に散気手段を配設して、散気手段からの散気により生起される被処理液の上向流を、前記膜モジュールのヘッダとガイド板とで形成される一方の開口から他方の開口へ向けて通過させるように構成した膜分離装置において、水平方向に隣接する膜エレメント間の間隙を前記上向流が通過する上向流路となし、槽内における膜モジュールの外側領域を下向流路となすとともに、下向流路の断面積が上向流路の断面積の1〜3倍となるように構成したことを特徴とする膜分離装置。
IPC (4)：
B01D 63/06
, B01D 65/02
, C02F 1/44
, C02F 3/20
B01D 63/06
, B01D 65/02
, C02F 1/44 H
, C02F 1/44 F
, C02F 3/20 Z
