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J-GLOBAL ID：200903091212393763
磁気ディスクの製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991287327
Publication number (International publication number)：1993274663
Application date： Oct. 08, 1991
Publication date： Oct. 22, 1993
Summary：
【要約】【目的】【構成】 磁気ディスクを構成する非磁性基板のテクスチャリング加工をまず、第1の研磨として平均粒径が0.5-9μmの研磨砥粒の研磨テープにより行い、続いて、第2の研磨として平均粒径が、0.01-5μmの研磨砥粒よりなるスラリーとバフテープとを用いて行う。【効果】 磁気ディスク基板表面のテクスチャリングの中心線平均粗さ(Ra)を維持したまま、磁気ディスクのグライド特性を大きく向上することができるので、C.S.S.耐久性が良好で、かつ低浮上量ヘッドに対しても優れたグライド特性を有する。
Claim (excerpt)：
非磁性基板の表面に同心円上の微細な凸凹を形成するテクスチャリング加工をした後、該表面上に少なくとも下地膜、磁性膜、保護潤滑膜を積層してなる磁気ディスクの製造方法において、テクスチャリング加工として該非磁性基板の表面を平均粒径が0.5-9μmの研磨砥粒の研磨テープにより第1の研磨を施した後、その同一表面を平均粒径が、0.01-5μmの研磨砥粒よりなるスラリーとバフテープとを用いて第2の研磨を施すことを特徴とする磁気ディスクの製造方法。
IPC (2)：
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