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J-GLOBAL ID:200903091247348256
4,6-ジアミノレゾルシノール及び/又はその塩、それより得られるポリベンズビスオキサゾールの製造方法及びその成形体
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998157582
Publication number (International publication number):1999060546
Application date: Jun. 05, 1998
Publication date: Mar. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】保存安定性の良い4,6-ジアミノレゾルシノール及び/又はその塩を得ること。【解決手段】?@標準酸化還元電位が -0.20 volt 以上、0.34 volt 以下の還元剤を100ppm以上、10,000ppm 以下含有することを特徴とする4,6-ジアミノレゾルシノール及び/又はその塩、?A前記?@の4,6-ジアミノレゾルシノール及び/又はその塩を用いてポリベンズビスオキサゾールを製造する方法、?B前記?Aを成形して得られる繊維またはフィルム。
Claim (excerpt):
標準酸化還元電位が -0.20 volt 以上、0.34 volt 以下の還元剤を100ppm以上、10,000ppm 以下含有することを特徴とする4,6-ジアミノレゾルシノール及び/又はその塩。
IPC (4):
C07C215/80
, C07C213/10
, C08G 73/22
, D01F 6/74
FI (4):
C07C215/80
, C07C213/10
, C08G 73/22
, D01F 6/74 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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特開昭63-301224
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特開昭60-239447
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特開昭62-061956
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特表平2-500743
-
特表平7-500592
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
化学大辞典3, 19600930, 初版第1刷, 903〜904
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