Pat
J-GLOBAL ID:200903091257816274
酸化チタン-酸化ジルコニウム複合膜の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
塩澤 寿夫 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999204362
Publication number (International publication number):2001031423
Application date: Jul. 19, 1999
Publication date: Feb. 06, 2001
Summary:
【要約】【課題】 優れた耐摩耗性等の機械的強度と光触媒活性とを有する酸化チタン系の複合膜を高温処理を必要とすることなく製造できる方法を提供すること。【解決手段】 フルオロ金属錯イオンを含有する水溶液にフッ素捕捉剤を添加することによって、金属酸化物薄膜を基材上に析出させる方法において、フルオロ金属錯イオンを構成する金属元素がチタン及びジルコニウムである酸化チタン-酸化ジルコニウム複合膜の製造方法。
Claim (excerpt):
フルオロ金属錯イオンを含有する水溶液にフッ素捕捉剤を添加することによって、金属酸化物薄膜を基材上に析出させる方法において、フルオロ金属錯イオンを構成する金属元素がチタン及びジルコニウムであることを特徴とする酸化チタン-酸化ジルコニウム複合膜の製造方法。
IPC (3):
C01G 25/00
, B01J 21/06
, B01J 35/02
FI (3):
C01G 25/00
, B01J 21/06 M
, B01J 35/02 J
F-Term (34):
4G048AA03
, 4G048AB02
, 4G048AC08
, 4G048AD02
, 4G048AE06
, 4G069AA08
, 4G069AA09
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA04C
, 4G069BA05A
, 4G069BA05B
, 4G069BA48A
, 4G069BA48C
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BB04C
, 4G069BB06A
, 4G069BB06B
, 4G069BC02B
, 4G069BC02C
, 4G069BC51B
, 4G069BC51C
, 4G069BD03B
, 4G069BD03C
, 4G069BD15B
, 4G069BD15C
, 4G069CD10
, 4G069EA07
, 4G069EC22Y
, 4G069ED03
, 4G069ED04
, 4G069FC03
, 4G069FC04
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