水素ガス分離装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷照一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992344407
Publication number (International publication number)：1994191802
Application date： Dec. 24, 1992
Publication date： Jul. 12, 1994
Summary：

【要約】【目的】水素ガス分離装置において、高温高圧下でのガスの漏洩がなく、かつ熱膨張に対する影響のない分離膜の支持を達成する。【構成】被処理ガスの流入孔、処理済ガスの第1の流出孔および第2の流出孔を有する容器10内に、水素ガスを選択的に透過させる選択透過能を有する透過膜を備えた水素ガス分離膜21を、その一端をフランジ22に貫通させて同フランジ22に接着固定した状態で吊下状に支持し、前記流入孔から流入する被処理ガス中の水素ガス成分を前記透過膜を透過させて第1の流出孔から流出されるとともに、被処理ガス中の残りのガス成分を前記第2の流出孔から流出させる水素ガス分離装置であり、水素ガス分離膜21が耐熱性の無機接着剤24にてフランジ22に接着されていること。

Claim (excerpt)：

被処理ガスの流入孔、処理済ガスの第1の流出孔および第2の流出孔を有する容器内に、無機多孔質支持体の少なくとも一側に水素ガスを選択的に透過させる選択透過能を有する透過膜を備えた水素ガス分離膜を、同水素ガス分離膜の一端をフランジジに貫通させて同フランジに接着固定した状態で支持し、前記流入孔から流入する被処理ガス中の水素ガス成分を前記透過膜を透過させて前記第1の流出孔から流出させるとともに、前記被処理ガス中の残りのガス成分を前記第2の流出孔から流出させる水素ガス分離装置であり、前記水素ガス分離膜が耐熱性の無機接着剤にて前記フランジに接着されていることを特徴とする水素ガス分離装置。

IPC (4)：

C01B 3/56 , B01D 53/22 , B01D 63/06 , B01D 71/02 500

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-211976
特開平3-097603
特開昭62-121616

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