Pat

J-GLOBAL ID：200903091323442852

投影光学系、露光装置、およびそれらの製造方法

Inventor： 村上 研太郎 ,  畑田 仁志
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Agent (1)： 山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001169406
Publication number (International publication number)：2002250865
Application date： Jun. 05, 2001
Publication date： Sep. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 他の収差を実質的に発生させることなく、平行平面状の補正部材の比較的少ない加工量で残存収差を良好に補正することのできる投影光学系。【解決手段】 第1面(M)の像を第2面(W)に投影する投影光学系(PL)。第1面と第2面との間の光路中に設定された第1補正部材(C1)と、第1補正部材と第2面との間の光路中に設定された第2補正部材(C2)とを備えている。第1補正部材の少なくとも一方の面および第2補正部材の少なくとも一方の面は、投影光学系に残存する少なくとも1つの種類の残存収差を分担しながら補正するために、所要の形状にそれぞれ加工されている。

Claim (excerpt)：

第1面の像を第2面に投影する投影光学系において、前記第1面と前記第2面との間の光路中に設定された第1補正部材と、前記第1補正部材と前記第2面との間の光路中に設定された第2補正部材とを備え、前記第1補正部材の少なくとも一方の面および前記第2補正部材の少なくとも一方の面は、前記投影光学系に残存する少なくとも1つの種類の残存収差を分担しながら補正するために、所要の形状にそれぞれ加工されていることを特徴とする投影光学系。

IPC (4)：

G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A

F-Term (23)：

2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA01 ,  2H087NA09 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB20 ,  2H087QA03 ,  2H087QA06 ,  2H087QA19 ,  2H087QA21 ,  2H087QA25 ,  2H087QA39 ,  2H087QA41 ,  2H087QA45 ,  2H087RA05 ,  2H087RA11 ,  2H087RA32 ,  2H087RA42 ,  5F046CB19 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05