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J-GLOBAL ID：200903091350260332

ホトマスクおよび位相差測定方法

Inventor： 早野 勝也 ,  長谷川 昇雄 ,  安藤 由美子
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994014217
Publication number (International publication number)：1995221005
Application date： Feb. 08, 1994
Publication date： Aug. 18, 1995
Summary：

【要約】【目的】マスク内に測定パタンを配置し、実際に使用する装置を使用して簡単且つ精度良く位相差を求め、マスクの位相差管理をより高精度なものとする。【構成】マスク内に位相差を測定するためのパタンを配置し、パタンを焦点ずれ状態で転写して、光学顕微鏡等で測定する。【効果】位相差を簡便に測定でき、マスクの位相差を最適化する事により位相反転効果が十分に得られ、パタンの形状不良や解像不良を防止できる。

Claim (excerpt)：

露光光に対して不透明な領域と透明な領域とを含み、上記透明な領域に透過する光の位相差がおよそ180°となるような二種類の透明パタンを有するホトマスク内に、素子を構成するパタン以外に位相差測定用の透明パタンを配置した事を特徴とするホトマスク。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  G01M 11/00 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/66