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J-GLOBAL ID：200903091368850641
情報記録原盤の複製法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
瀧野 秀雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992028452
Publication number (International publication number)：1993222567
Application date： Feb. 14, 1992
Publication date： Aug. 31, 1993
Summary：
【要約】【目的】情報記録原盤の情報信号ピットが形成されたホトレジスト層の面に対する無電解メッキ層のつきまわり性を改善して、情報記録原盤を高精度で複製する方法を提供する。【構成】ガラス基板の面にポジ型ホトレジストを塗付乾燥したのちレーザ光線により信号を記録し、現像によりホトレジスト層にピットを形成して情報記録原盤を得、次いでこれに無電解メッキを施して導体化したのち電鋳により複製を行うにあたり、無電解メッキの前処理として信号記録面に該ホトレジストに感度を有する紫外線を照射したのち水洗しその後増感処理と活性化処理とを行う。
Claim (excerpt)：
ガラス基板の面にポジ型ホトレジストを塗付乾燥したのちレーザ光線により信号を記録し、現像によりホトレジスト層にピットを形成して情報記録原盤を得、次いでこれに無電解メッキを施して導体化したのち電鋳により複製を行うにあたり、無電解メッキの前処理として信号記録面に該ホトレジストに感度を有する紫外線を照射したのち水洗しその後増感処理と活性化処理とを行うことを特徴とする情報記録原盤の複製法。
IPC (4)：
C25D 1/00 331
, C23C 18/18
, G11B 7/26 501
, C23C 18/20
