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J-GLOBAL ID：200903091389413969

感光性組成物及びパターン形成方法

Inventor： 木原 尚子 ,  湯浅 文彦 ,  後河内 透 ,  多田 宰 ,  斎藤 聡 ,  内藤 卓哉 ,  佐々木 修
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 外川 英明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998294799
Publication number (International publication number)：1999194498
Application date： Dec. 26, 1991
Publication date： Jul. 21, 1999
Summary：

【要約】【課題】短波長の紫外線又は電離放射線での露光を適用でき、且つドライエッチング耐性に優れ、更に露光、アルカリ水溶液による現像での許容性を大きくでき、良好な断面形状を有する微細なパターン形成が可能な感光性組成物を提供しようとするものである。【解決手段】アルカリ可溶性重合体と化学放射線の照射により酸を発生する化合物と、少なくとも1個の酸により分解する置換基を有し、且つ分解後の生成物がアルカリ溶液中で-COO- 又は-SO3 - を生じる化合物とを含有することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

化学放射線の照射により酸を発生する化合物;及び(a)前記化合物が化学放射線を照射されて発生した酸により分解するすくなくとも1個の酸分解性置換基と、(b)前記酸分解性置換基が分解した後、アルカリ水溶液中での反応により-COO- 又は-SO3 - を生じる少なくとも1個の基とを有する酸により分解する化合物を含有する感光性組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平2-181150