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J-GLOBAL ID：200903091417102095
レーザー処理装置および処理方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992328770
Publication number (International publication number)：1994152036
Application date： Nov. 13, 1992
Publication date： May. 31, 1994
Summary：
【要約】【目的】 量産性に優れ、高い精度のレーザー処理装置を提供する。【構成】 レーザー装置および光学装置を試料を移動させるためのステージとは別の防振装置上に設置することによって、ステージの移動に伴う振動をレーザー装置および光学系に伝播しないようにし、よって、レーザーの安定性を高め、かつ、生産性を高める。
Claim (excerpt)：
試料を移動させるためのステージと、前記ステージとは別に設けられた防振機能を有する物体上に設置されたレーザー光学装置とを有するレーザー処置装置。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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