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J-GLOBAL ID：200903091430169948

X線反射型マスク及びその製造方法

Inventor： 和佐 若菜 ,  清水 澄人 ,  村上 勝彦
Applicant, Patent owner： 株式会社ニコン
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996127420
Publication number (International publication number)：1997312252
Application date： May. 22, 1996
Publication date： Dec. 02, 1997
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 パターンの欠陥がある場合でも、該欠陥を精度良く安定してリペアすることができるX線反射型マスク及びパターン欠陥のないX線反射型マスクの製造方法を提供する。【解決手段】 欠陥部を有するX線反射型マスク上にレジスト4を塗布し、さらに吸収体層の欠損にかかる欠陥部とマスクパターンの非形成領域において開口をそれぞれ有するレジストパターン4aを形成する工程と、前記開口部分にX線吸収体層3a,5aを形成する工程と、前記レジストパターン4aを除去する工程と、X線反射型マスク上に再びレジスト4を塗布し、さらに多層膜が露出していない欠陥部とX線吸収体層において開口をそれぞれ有するレジストパターン4bを形成する工程と、前記開口部分にあるX線吸収体層5a,3bと、前記レジストパターン4bを除去する工程を含む。

Claim (excerpt)：

少なくとも、基板上に形成されたX線反射多層膜と、該多層膜上に形成されたX線吸収体層とを備えたX線反射型マスクにおいて、前記X線吸収体層は、マスクパターンの形成領域にあるパターン状のX線吸収体層と、該マスクパターンの非形成領域にあるX線吸収体層とを有することを特徴とするX線反射型マスク。

IPC (6)：

H01L 21/027 ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/08 ,  G02B 5/26 ,  G03F 1/16 ,  G21K 1/06

FI (7)：

H01L 21/30 531 M ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/08 C ,  G02B 5/26 ,  G03F 1/16 A ,  G21K 1/06 C ,  G21K 1/06 D