イオン移動システムと質量分析計から不要なイオンを除去する手段

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：北澤一浩 (外2名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2000570816
Publication number (International publication number)：2002525801
Application date： Sep. 16, 1999
Publication date： Aug. 13, 2002
Summary：

【要約】本発明は誘導結合高周波プラズマ質量分析(ICPMS)に関し、衝突セルを用いてイオン・ビームから不要な人工イオンを反応気体と選択的に反応させることにより除去する。本発明は、膨張チャンバ(3)と、衝突セル(24)を内蔵した第二真空チャンバ(20)の間に設けた高真空の第一真空チャンバ(6)を提供する。第一真空チャンバ(6)は第一イオン光学装置(17)を有する。衝突セル(24)は第二イオン光学装置(25)を内蔵する。第一真空チャンバ(6)の設置は、プラズマ源(1)からの気体負荷に原因があると思われる衝突セル(24)内の残留圧を最小にすることにより衝突セル(24)への気体負荷を減少する。これは衝突セル(24)内の不要人工イオンの形成あるいは再形成を最小にする作用をする。

Claim (excerpt)：

プラズマに導入した試料からイオンを発生させる手段(1)と; イオン・ビームを形成するために上記イオンの一部を第一軸(9)に沿った真空排気した膨張チャンバ(3)内へと透過させるためのサンプリング開口部(2)と; 高圧に維持された第一真空チャンバ(6)内に上記イオン・ビームの一部を透過させる第二開口部(5)と; イオン・ビームを閉じ込めるため上記第一真空チャンバ(6)内に設けた第一イオン光学装置(17)と; 上記第一真空チャンバ(6)よりも低い圧力に維持された第二真空チャンバ(20)内に上記イオン・ビームを透過させるための第三開口部(19)と; 上記第二真空チャンバ(20)内に設けられ、進入開口部(27)と排出開口部(26)を有し、ターゲット気体で加圧された衝突セル(24)と; 上記イオン・ビームを閉じ込めるため上記衝突セル(24)内に設けた第二イオン光学装置と(25); 上記イオン・ビームの質量スペクトルを作るために、第二軸(36)に沿って設けた該イオン・ビームを質量分析するための質量対電荷比分析手段(37)を内蔵し、上記第二真空チャンバ(20)より低い圧力に維持された第三真空チャンバ(33)内へ上記イオン・ビームを透過させるための第四開口部(32)とを有することを特徴とする、質量分析計。

IPC (4)：

H01J 49/42 , G01N 27/62 , H01J 49/06 , H01J 49/10

FI (4)：

H01J 49/42 , G01N 27/62 G , H01J 49/06 , H01J 49/10

F-Term (4)：

5C038FF07 , 5C038FF13 , 5C038JJ02 , 5C038JJ06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

プラズマ質量スペクトロメータ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-159226 Applicant：マイクロマス・リミテッド
特開平2-158047
特開平3-261062

Return to Previous Page