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J-GLOBAL ID：200903091457350458

非晶質HfNi合金系水素分離・解離用膜、その製造方法及びその活性化処理方法

Inventor： 原 重樹 ,  榊 啓二 ,  伊藤 直次
Applicant, Patent owner： 工業技術院長 ,  原 重樹
Agent (1)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999123448
Publication number (International publication number)：2000319733
Application date： Apr. 30, 1999
Publication date： Nov. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 水素のみに対して高い透過能を有し、水素雰囲気中でも充分な強度および構造安定性を有し、かつ、Pd等の貴金属を実質的に必要としない水素分離・解離用金属膜を提供する。【課題を解決する手段】 液体急冷法を用いて、非晶質HfNi合金およびHfとNiを主成分とする非晶質多元合金を作成し、これを水素分離・解離用膜として用いる。

Claim (excerpt)：

非晶質HfNi合金からなる水素分離・解離用膜。

IPC (8)：

C22C 1/00 ,  C01B 3/50 ,  C22C 45/04 ,  C22F 1/10 ,  C22F 1/00 ,  C22F 1/00 608 ,  C22F 1/00 622 ,  C22F 1/00 641

FI (8)：

C22C 1/00 N ,  C01B 3/50 ,  C22C 45/04 Z ,  C22F 1/10 A ,  C22F 1/00 B ,  C22F 1/00 608 ,  C22F 1/00 622 ,  C22F 1/00 641 A

F-Term (6)：

4G040FA04 ,  4G040FA06 ,  4G040FB09 ,  4G040FC01 ,  4G040FD04 ,  4G040FE01