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J-GLOBAL ID：200903091462092564

位相シフトマスク用ブランクおよび位相シフトマスク並びにその製造方法

Inventor： 植山 公助 ,  福島 祐一 ,  小西 敏雄
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991211078
Publication number (International publication number)：1993053290
Application date： Aug. 22, 1991
Publication date： Mar. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】位相シフトマスクの製造において、チャージアップ現象防止のために導電層を改めて設ける必要がなく、シフタ層をエッチングする際のエッチング終点が判り易い位相シフトマスク用ブランクおよび位相シフトマスクを提供する。【構成】透明支持基板上にエッチングストッパ層、シフタ層、導電層を順次設けた位相シフトマスク用ブランクをパターニングすることにより、位相シフトマスクを製造する。

Claim (excerpt)：

透明支持基板上にエッチングストッパ層、シフタ層、導電層を順次設けたことを特徴とする位相シフトマスク用ブランク。

IPC (2)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027