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J-GLOBAL ID:200903091470563649

光学式変位測定装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 友二 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992025911
Publication number (International publication number):1993196416
Application date: Jan. 17, 1992
Publication date: Aug. 06, 1993
Summary:
【要約】【目的】 測定対象物体に光点を形成し、この光点からの反射光を集光レンズを介して検出器上に集光させて光点の像の位置を検出して測定対象物体の位置や変位を測定する光学式変位測定装置において、安定した変位測定ができる汎用な装置を得る。【構成】 正反射光の光軸と上記光点と上記集光レンズの光軸とが形成する角度θを、所定角度以上大きくした光学系を採用し、正反射光が集光レンズに入射しないような構成としたことを特徴とする。
Claim (excerpt):
測定対象物体に光ビームを照射して光点(光スポット)を形成し、この光点からの反射光を集光レンズを介して検出器上に集光させて光点の像を形成し、検出器上のどの位置に光点の像が形成されるかによって測定対象物体までの距離や測定対象物体の変位を測定する光学式変位測定装置において、照射光ビームの入射角と等しい角度で反射する反射光を正反射光とした場合、正反射光の光軸と上記光点と上記集光レンズの光軸とが形成する角度θを、所定角度以上大きく設定することによって、上記正反射光方向に所定の拡がり角をもって生じる強い反射光成分が上記集光レンズに入射しない光学系配置を有することを特徴とした光学式変位測定装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
  • 特開平3-077006
  • 特開平3-257307
  • 特開昭63-029208
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