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J-GLOBAL ID：200903091497044961

排気ガス浄化用触媒の製造方法

Inventor： 片岡 拓実 ,  中村 聡 ,  牧野 太輔 ,  大山 尚久
Applicant, Patent owner： 株式会社日本自動車部品総合研究所
Agent (1)： 石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995318971
Publication number (International publication number)：1997155206
Application date： Dec. 07, 1995
Publication date： Jun. 17, 1997
Summary：

【要約】【課題】 排気ガス浄化用触媒担体に、従来の含浸法に比べて触媒金属成分を均一微細に担持できるCVD法を、簡易な装置で実施できる方法を提供する。【解決手段】 排気ガス浄化用触媒担体と昇華性の触媒原料を、同じ密閉容器内に配置し、前記触媒原料を昇華させ、昇華した触媒原料を、担体上に分解温度以上で分解担持させる。

Claim (excerpt)：

触媒担体と昇華性の触媒原料を、同じ密閉容器内に配置し、前記触媒原料を昇華させ、担体上に分解温度以上で分解担持させることを特徴とする排気ガス浄化用触媒の製造方法。

IPC (2)：

B01J 37/02 301 ,  B01J 31/22 ZAB

FI (2)：

B01J 37/02 301 P ,  B01J 31/22 ZAB A