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J-GLOBAL ID：200903091521102285

洗浄水製造・供給システム及び製造・供給方法並びに洗浄システム

Inventor： 呉 義烈 ,  三森 健一
Applicant, Patent owner： 株式会社フロンテック
Agent (1)： 福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997049491
Publication number (International publication number)：1998244263
Application date： Mar. 04, 1997
Publication date： Sep. 14, 1998
Summary：

【要約】【課題】 コンパクトであり、電極による汚染がない洗浄液による洗浄を行え、一つの工程で有機物の洗浄液とパーティクルの洗浄液を製造できる洗浄水製造・供給方法を提供する。【解決手段】 アノード室とカソード室とを有し、該アノード室においてO3ガスを発生させ、該カソード室においてH2ガスを発生させる電気分解槽と、該アノード室で発生したO3ガスを該アノード室外へ排出するO3ガス排出配管と、該O3ガス排出配管に接続されO3ガスを純水に溶解させO3水を製造するためのO3ガス溶解塔と、該O3ガス溶解塔からO3水を洗浄室へ導入するためのO3水配管と、該カソード室で発生したH2ガスを該カソード室外へ排出するH2ガス排出配管と、該H2ガス排出配管に接続されH2ガスを純水に溶解させH2水を製造するためのH2ガス溶解塔と、該H2ガス溶解塔からH2水を洗浄室へ導入するためのH2水配管と、を少なくとも有する。

Claim (excerpt)：

アノード室とカソード室とを有し、該アノード室においてO3(オゾン)ガスを発生させ、該カソード室においてH2(水素)ガスを発生させる電気分解槽と、該アノード室で発生したO3ガスを該アノード室外へ排出するO3ガス排出配管と、該O3ガス排出配管に接続されO3ガスを純水に溶解させO3水を製造するためのO3ガス溶解塔と、該O3ガス溶解塔からO3水を洗浄室へ導入するためのO3水配管と、該カソード室で発生したH2ガスを該カソード室外へ排出するH2ガス排出配管と、該H2ガス排出配管に接続されH2ガスを純水に溶解させH2水を製造するためのH2ガス溶解塔と、該H2ガス溶解塔からH2水を前記洗浄室へ導入するためのH2水配管と、を少なくとも有することを特徴とする洗浄水製造・供給システム。

IPC (3)：

C02F 1/46 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 341

FI (3)：

C02F 1/46 A ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 341 L