形状記憶高分子

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：青山葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000279816
Publication number (International publication number)：2002097234
Application date： Sep. 14, 2000
Publication date： Apr. 02, 2002
Summary：

【要約】【課題】 1次形状への回復の際における賦形温度の依存性を高めた耐熱性の形状記憶高分子を提供する。【解決手段】 (A)反応性二重結合を分子内に少なくとも2つもったソフトセグメントと、(B)反応性二重結合を分子内に少なくとも1つもったフッ素非含有モノマーであって、その単独重合体が25°C以上200°C以下のガラス転移温度を有するものと、(C)反応性二重結合を分子内に少なくとも1つもったフッ素含有モノマーであって、その単独重合体が25°C以上200°C以下のガラス転移温度を有するものと、(D)前記ソフトセグメント、前記フッ素非含有モノマー及び前記フッ素含有モノマーに対する開始剤とを備える形状記憶高分子前駆体からなる形状記憶高分子。

Claim (excerpt)：

(A)反応性二重結合を分子内に少なくとも2つもったソフトセグメントと、(B)反応性二重結合を分子内に少なくとも1つもったフッ素非含有モノマーであって、その単独重合体が25°C以上200°C以下のガラス転移温度を有するものと、(C)反応性二重結合を分子内に少なくとも1つもったフッ素含有モノマーであって、その単独重合体が25°C以上200°C以下のガラス転移温度を有するものと、(D)前記ソフトセグメント、前記フッ素非含有モノマー及び前記フッ素含有モノマーに対する開始剤と、を備える形状記憶高分子前駆体からなる形状記憶高分子。

IPC (3)：

C08F290/06 , C08J 5/00 CER , C08L 55:00

FI (3)：

C08F290/06 , C08J 5/00 CER , C08L 55:00

F-Term (17)：

4F071AA33X , 4F071AA44X , 4F071AA76 , 4F071AA86 , 4F071AF60 , 4F071AH12 , 4F071BC03 , 4J027AA07 , 4J027AB01 , 4J027AB02 , 4J027AG01 , 4J027BA04 , 4J027BA06 , 4J027BA07 , 4J027BA14 , 4J027CB03 , 4J027CD06

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