Pat

J-GLOBAL ID：200903091525645275

積層膜の製造方法

Inventor： 奥和田 久美
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992019854
Publication number (International publication number)：1993217814
Application date： Feb. 05, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 デラミネーションのない、かつ均一な積層膜を、量産的に製造し得る方法の提供を目的とする。【構成】 支持基板面に所要の金属元素を含む化合物溶液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗布層をアッシングする工程とを繰り返して積層膜を形成することを特徴とする。

Claim (excerpt)：

支持基板面に所要の金属元素を含む化合物溶液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗布層をアッシングする工程とを繰り返すことを特徴とする積層膜の製造方法。

IPC (7)：

H01G 13/00 391 ,  C01G 23/00 ,  C01G 25/00 ,  H01G 4/06 102 ,  H01G 4/10 ,  H01G 4/12 364 ,  C23C 18/14