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J-GLOBAL ID：200903091525921175

絶縁膜及びその形成方法

Inventor： 緑川 理子 ,  小佐野 永人 ,  小林 直樹
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 若林 忠
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996347928
Publication number (International publication number)：1998190196
Application date： Dec. 26, 1996
Publication date： Jul. 21, 1998
Summary：

【要約】【課題】 層間割れや、ひび割れ、反り、剥離等が無く、絶縁性が良好な所望の膜厚を有する絶縁膜を提供する。【解決手段】 基板上に絶縁膜を形成する方法であって、(1)絶縁材塗布液に絶縁性粒子を分散する工程、(2)絶縁性粒子を含む絶縁材塗布液を基板上に塗布する工程、(3)該基板を焼成し絶縁膜を形成する工程からなることを特徴とする絶縁膜の形成方法。

Claim (excerpt)：

基板上に絶縁膜を形成する方法であって、(1)絶縁材塗布液に絶縁性粒子を分散する工程、(2)絶縁性粒子を含む絶縁材塗布液を基板上に塗布する工程、(3)該基板を焼成し絶縁膜を形成する工程からなることを特徴とする絶縁膜の形成方法。