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J-GLOBAL ID：200903091537394790
縦型熱処理装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
井上 一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992252138
Publication number (International publication number)：1994077154
Application date： Aug. 26, 1992
Publication date： Mar. 18, 1994
Summary：
【要約】【目的】 被処理体の全面を均一な温度で効率よく熱処理することができる縦型熱処理装置を提供すること。【構成】 熱処理部20のプロセスチューブ22内には、ウエハ10をプロセスチューブ22内に搬入して水平に支持するウエハホルダー12が配置される。また、プロセスチューブ22の上壁と対向する上方位置には面状発熱源31が配置される。この面状発熱源31とプロセスチューブ22の上壁との間の第1の領域とプロセスチューブ22の上端側の側面を囲む第2の領域には、均熱部材24が配置される。この面状発熱源31及び均熱部材に24により、ウエハ10に対する熱処理の均一性を高めることができる。また、均熱部材24は第2の領域にも配置されるため、被処理体の周縁からの放熱を効果的に防止でき、更に効果的に熱処理の均一性を向上させることができる。また、処理の種類に応じて輻射熱の入射方向を制御できるため、これにより熱処理効率を高めることができる。
Claim (excerpt)：
被処理体の搬入出用の下端開口を有する縦型プロセスチューブと、前記被処理体を水平に支持し、前記開口を介して前記縦型プロセスチューブ内に搬入して所定の処理位置に設定する被処理体用ホルダーと、前記縦型プロセスチューブの上壁と対向する上方位置に配置された面状発熱源と、前記縦型プロセスチューブの前記上壁と前記面状発熱源との間の第1の領域と、前記縦型プロセスチューブの上端側の側壁を囲む第2の領域とに配置された均熱部材とを有することを特徴とする縦型熱処理装置。
Patent cited by the Patent：
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