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J-GLOBAL ID：200903091552189036

像製造方法

Inventor： エルマン・ジヨゼフ・ユイテルオヴアン ,  ヴオルフガング・ポドスツン ,  ミヒヤエル・ミユラー ,  ジヨアン・トリフオン・ヴエルメールシユ ,  ジルベール・ジヨアンヌ・ヴオールトマン
Applicant, Patent owner： アグフア・ゲヴエルト・ナームロゼ・ベンノートチヤツプ
Agent (1)： 安達 光雄 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992083480
Publication number (International publication number)：1993107759
Application date： Mar. 04, 1992
Publication date： Apr. 30, 1993
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】高重合速度を有し、低転化率で固化を示す単量体を含有する光重合性組成物を用い像を製造又は再製するための方法を提供する。【構成】光重合性組成物を像に従って露光し、前記光重合性組成物の非露光部分又は不充分に露光された部分を加熱によって受容材料に転写する。本発明の方法はカラー像の再製、平版印刷版もしくは静電印刷マスター等の製造に適用できる。

Claim (excerpt)：

光重合性組成物を含有する像形成材料を化学放射線に対し情報に従って露光することを含む像を製造する方法において、前記光重合性組成物が下記一般式に相当する少なくとも一種の単量体を含有することを特徴とする像製造法。【化1】式中nは1〜3の整数を表わし、mはnが1に等しいとき3〜6の整数に等しく、nが2又は3に等しいとき2〜6の整数に等しく、uは0又は1に等しい;Aはnが1に等しいとき3〜6価であり、nが2又は3に等しいとき2〜6価である下記種類の有機基を表わす:(a) 一つ以上のエーテル、エステル又はアミド官能基で中断されていてもよい5〜25個の炭素原子を含有する炭化水素残基、(b)【化2】(式中A1 は0〜3個の酸素原子及び2〜20個の炭素原子を含有しうる線状又は分枝鎖脂肪族残基、6〜24個の炭素原子を含有する芳香族残基、7〜28個の炭素原子を含有する芳香族脂肪族残基、又は6〜26個の炭素原子を含有する環式脂肪族残基を表わし、R3 及びR4 はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表わし、A2 は5〜25個の炭素原子を含有する炭化水素基を表わし、oは0〜5の整数を表わし、pはnが0又は3に等しいとき2〜6の整数を表わし、nが1に等しいとき3〜6の整数を表わす)(c)【化3】(式中A1 ,A2 ,R3 ,R4 ,o及びpは前述したのと同意義を有する)(d)【化4】(式中A1 ,R3 ,R4 ,o及びpは前述したのと同意義を有し、Gは-O-CO-NH-Y(-COO-)q -を表わし、Yは2〜15個の炭素原子を含有し、エステル、エーテル又はウレタン基を含有していてもよい2価(環式)脂肪族残基を表わし、qは0又は1を表わし、Qは1〜3個の酸素架橋を含有していてもよく、3〜15個の炭素原子を含有する線状又は分枝鎖脂肪族炭化水素基を表わす)XはO又はNR2 を表わす:L1 は少なくとも2価であり、1〜3個の酸素原子を含有できる脂肪族炭化水素残基を表わす;L2 は分枝鎖又は直鎖であることのできる1〜6個の炭素原子を含有するアルキレン基を表わす;R1 は水素又はメチル基を表わす;R2 は水素又は1〜6個の炭素原子の低級アルキル基を表わす。

IPC (6)：

G03F 7/027 502 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 513 ,  G03F 7/038 505 ,  G03F 7/105 504 ,  G03F 7/34