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J-GLOBAL ID：200903091559709329

純水製造装置

Inventor： 澤田 英隆 ,  平野 隆 ,  百瀬 祥一 ,  井上 司朗 ,  末松 日出雄 ,  木場 和則
Applicant, Patent owner： 日立造船株式会社
Agent (1)： 岸本 瑛之助 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992060278
Publication number (International publication number)：1993261397
Application date： Mar. 17, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：

【要約】【目的】 単段の蒸留操作によっても理論純水の抵抗率に近い、例えば抵抗率18MΩ・cm以上の純水を製造することができ、しかも蒸留器をコンパクトにできる純水製造装置を提供する。【構成】 蒸留器1の前流に、第1段逆浸透モジュール2、脱気器9および第2段逆浸透モジュール3が、この順序で前流がわから設けられている。第1段逆浸透モジュール2において、硬度成分等のイオン類の大半および炭酸イオンが除去される。脱気器9において、炭酸ガス、酸素等が除去される。第2段逆浸透モジュール3において、中和用に注入されるアルカリに含まれる炭酸成分も除去され、蒸留器1へは炭酸成分がほとんど存在しない水が供給される。

Claim (excerpt)：

蒸留操作によって純水を製造する純水製造装置において、蒸留器(1) の前流に、第1段逆浸透モジュール(2) 、脱気器(9) および第2段逆浸透モジュール(3) が、この順序で前流がわから設けられていることを特徴とする純水製造装置。

IPC (5)：

C02F 9/00 ,  B01D 61/58 ,  C02F 1/04 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭52-073555
  
• 特開平1-171689
  
• 特開昭63-036890