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J-GLOBAL ID：200903091572313949
浮遊帯域溶融装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995009469
Publication number (International publication number)：1996208368
Application date： Jan. 25, 1995
Publication date： Aug. 13, 1996
Summary：
【要約】【構成】 内面を反射面とした4つの回転楕円面反射鏡(2)の一方の焦点に、赤外線(1)ランプを設けて、他方の焦点上で反射面から反射した赤外線を集中して加熱する赤外線集中加熱式の浮遊帯域溶融装置において、赤外線ランプ(1)および回転楕円面反射鏡(2)を、回転楕円面反射鏡の長軸方向に移動できる機能を有する。【効果】 従来よりもはるかに大口径の大型単結晶の育成が可能となり、また、従来まで、レーザー光を用いて行われてきたファイバー単結晶育成についても、この装置を適用することが可能となる。
Claim (excerpt)：
内面を反射面とした4つの回転楕円面反射鏡の一方の焦点に、赤外線ランプを設けて、他方の焦点上で反射面から反射した赤外線を集中して加熱する赤外線集中加熱式の浮遊帯域溶融装置において、赤外線ランプおよび回転楕円面反射鏡を、回転楕円面反射鏡の長軸方向に移動できる機能を有したことを特徴とする浮遊帯域溶融装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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