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J-GLOBAL ID：200903091585376206
ピンチプラズマの発生方法および装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (2)：
谷 義一
, 工業技術院物質工学工業技術研究所長 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998028964
Publication number (International publication number)：1999233288
Application date： Feb. 10, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】 正確な円筒形状のブラズマを形成し、均一なピンチプラズマが得られるようにする。【解決手段】 電極1、2は真空容器内に対向して設置され、一方の電極2の表面には、電極2に使われている金属Aよりも小さい仕事関数を持つ金属Bがリング状に埋め込んである。電極2の材料である金属Aの仕事関数より小さく、電極2に埋め込んであるリング状の金属Bの仕事関数よりも大きいエネルギ-の波長の光を光源35から光学系36を通してこの電極2の表面全体に照射する。光の照射により電極2に埋め込んだリング状の金属Bからのみ光電効果による光電子が放出される。電圧印加により光電子が電極1に到達し、円筒形のプラズマが発生する。この円筒形は、金属Bの形状に起因し、整った形状になる。ピンチプラズマは、初期のプラズマが整った円筒形状にあるため、常に同じ位置に形成される。
Claim (excerpt)：
真空容器内に収納された電極対に電圧を印加して該電極対の間隙中にピンチプラズマを発生させる方法において、一方の電極の表面に該電極に使われている金属Aよりも小さい仕事関数を持つ金属Bをリング状に埋め込み、前記リング状の金属Bの仕事関数よりも高く該電極に使われている前記金属Aの仕事関数よりも低いフォトンエネルギーを持つ波長の光を前記一方の電極の表面に照射することにより、大電流プラズマを円筒形状に形成し、ピンチプラズマを生成させることを特徴とするピンチプラズマの発生方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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