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J-GLOBAL ID：200903091588532870
磁気記録媒体の製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994005031
Publication number (International publication number)：1995210865
Application date： Jan. 21, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：
【要約】【目的】 炭素膜のダイアモンド性の低下を防止した磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。【構成】 非磁性のアルミニウム合金等からなる基板1の上にNi-Pからなる中間層2を形成し、中間層2の上にCr等からなる下地膜3を形成し、下地膜3の上にCo系磁性材料からなる金属磁性層4を形成し、金属磁性層4の上にMo,Cr,Nb,W,Si等からなるバッファー層5を形成し、バッファー層5の上にスパッタリング等により炭素をターゲットとしてアルゴン,水素,酸素の混合ガスを用いて、その混合ガスの割合を体積比でそれぞれ水素を20%、酸素を5%、残りをアルゴンからなる比率で炭素膜6を形成し、炭素膜6の上にバーフルオロポリエーテル等からなる潤滑層7を形成する。
Claim (excerpt)：
基板の上に形成された金属磁性層の上にバッファー層を形成し、前記バッファー層の上にアルゴンと水素と酸素とからなる混合ガスの中でスパッタリングにより炭素膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (2)：
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